့
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းနယ်ပယ်တွင်၊ ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏တိကျမှုကိုအဆုံးအဖြတ်ပေးသည့်အဓိကကိရိယာများဖြစ်သောကြောင့် photolithography စက်၏အတွင်းပိုင်းပတ်ဝန်းကျင်တည်ငြိမ်မှုသည်အရေးကြီးပါသည်။ အလွန်အမင်း ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် အရင်းအမြစ်၏ လှုံ့ဆော်မှုမှ နာနိုစကေး တိကျစွာ ရွေ့လျားမှု ပလပ်ဖောင်း၏ လည်ပတ်မှုအထိ၊ လင့်ခ်တိုင်းတွင် အနည်းငယ်မျှ သွေဖည်မှု မရှိနိုင်ပါ။ ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများပါရှိသော Granite bases များသည် photolithography စက်များ၏ တည်ငြိမ်သောလည်ပတ်မှုနှင့် photolithography တိကျမှုကို မြှင့်တင်ပေးရန်အတွက် ပြိုင်ဘက်ကင်းသော အားသာချက်များကို သရုပ်ပြသည်။ ့
ထူးထူးခြားခြား လျှပ်စစ်သံလိုက် ကာရံခြင်း စွမ်းဆောင်ရည်
photolithography စက်၏အတွင်းပိုင်းသည် ရှုပ်ထွေးသော လျှပ်စစ်သံလိုက်ပတ်ဝန်းကျင်ဖြင့် ပြည့်နေသည်။ ပြင်းထန်သောခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်အရင်းအမြစ်များ၊ ဒရိုက်မော်တာများနှင့် ကြိမ်နှုန်းမြင့်ပါဝါထောက်ပံ့မှုများကဲ့သို့သော အစိတ်အပိုင်းများမှထုတ်ပေးသော လျှပ်စစ်သံလိုက်ဝင်ရောက်စွက်ဖက်မှု (EMI) သည် ထိထိရောက်ရောက်မထိန်းချုပ်ပါက စက်ပစ္စည်းအတွင်းရှိ တိကျသောအီလက်ထရွန်နစ်အစိတ်အပိုင်းများနှင့် အလင်းပြန်စနစ်များ၏စွမ်းဆောင်ရည်ကို ဆိုးရွားစွာထိခိုက်စေမည်ဖြစ်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ နှောင့်ယှက်မှုသည် photolithography ပုံစံများတွင် အနည်းငယ်သွေဖည်မှုဖြစ်စေနိုင်သည်။ အဆင့်မြင့်ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ ၎င်းသည် ချစ်ပ်ပေါ်ရှိ မမှန်သော ထရန်စစ္စတာချိတ်ဆက်မှုများဆီသို့ ဦးတည်ရန် လုံလောက်ပြီး ချစ်ပ်အထွက်နှုန်းကို သိသိသာသာလျှော့ချနိုင်သည်။ ့
Granite သည် သတ္တုမဟုတ်သော ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး သူ့ဘာသာသူလျှပ်စစ်ကို မသယ်ဆောင်ပါ။ သတ္တုပစ္စည်းများကဲ့သို့ အတွင်း၌ အလကားအီလက်ထရွန်များ ရွေ့လျားမှုကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော လျှပ်စစ်သံလိုက်လျှပ်ကူးမှုဖြစ်စဉ် မရှိပါ။ ဤသွင်ပြင်လက္ခဏာသည် ၎င်းအား အတွင်းပိုင်းလျှပ်စစ်သံလိုက်ဝင်ရောက်စွက်ဖက်မှု၏ ထုတ်လွှင့်မှုလမ်းကြောင်းကို ထိထိရောက်ရောက်ပိတ်ဆို့နိုင်သည့် သဘာဝလျှပ်စစ်သံလိုက်အကာအကွယ်ကိုယ်ထည်တစ်ခုဖြစ်စေသည်။ ပြင်ပလျှပ်စစ်သံလိုက်ဝင်ရောက်စွက်ဖက်မှုအရင်းအမြစ်မှထုတ်ပေးသော လျှပ်စစ်သံလိုက်စက်ကွင်းသည် granite အခြေစိုက်စခန်းသို့ ပြန့်ပွားသွားသောအခါ၊ ယမ်းစိမ်းသည် သံလိုက်မဟုတ်၍ သံလိုက်မရနိုင်သောကြောင့်၊ အလှည့်ကျသံလိုက်စက်ကွင်းသည် ထိုးဖောက်ဝင်ရောက်ရန်ခက်ခဲသဖြင့် အခြေခံတွင်တပ်ဆင်ထားသည့် photolithography စက်၏ ပင်မအစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည့် တိကျသောအာရုံခံကိရိယာများနှင့် optical မှန်ဘီလူးချိန်ညှိကိရိယာများ၊ photolithography လုပ်ငန်းစဉ်။ ့
အလွန်ကောင်းမွန်သောလေဟာနယ်နှင့်လိုက်ဖက်မှု
လွန်ကဲသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် (EUV) သည် လေအပါအဝင် အရာဝတ္ထုအားလုံးမှ အလွယ်တကူ စုပ်ယူနိုင်သောကြောင့် EUV lithography စက်များသည် လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် လည်ပတ်ရမည်ဖြစ်သည်။ ဤအချိန်တွင်၊ လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် စက်ပစ္စည်းအစိတ်အပိုင်းများ၏ လိုက်ဖက်ညီမှုမှာ အထူးအရေးကြီးပါသည်။ လေဟာနယ်တစ်ခုတွင်၊ ပစ္စည်းများသည် ပျော်ဝင်ကာ စုပ်ယူနိုင်ပြီး ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်နိုင်သည်။ ထွက်လာသောဓာတ်ငွေ့သည် EUV အလင်းရောင်ကို စုပ်ယူနိုင်ရုံသာမက အလင်း၏ပြင်းထန်မှုနှင့် ထုတ်လွှင့်မှုထိရောက်မှုကို လျှော့ချပေးရုံသာမက optical မှန်ဘီလူးများကိုပါ ညစ်ညမ်းစေပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ ရေခိုးရေငွေ့သည် မှန်ဘီလူးများကို ဓာတ်တိုးစေနိုင်ပြီး ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်များသည် မှန်ဘီလူးများပေါ်တွင် ကာဗွန်အလွှာများ အပ်နှံနိုင်ပြီး၊ lithography ၏ အရည်အသွေးကို ဆိုးရွားစွာ ထိခိုက်စေပါသည်။ ့
Granite သည် တည်ငြိမ်သောဓာတုဂုဏ်သတ္တိများရှိပြီး လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်ခဲပါသည်။ ပရော်ဖက်ရှင်နယ်စမ်းသပ်မှုများအရ၊ ပင်မခန်းရှိ အလင်းပေးစနစ်နှင့် ပုံရိပ်ဖော်အလင်းပြန်စနစ်တွင် H₂O < 10⁻⁵ Pa၊ CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa ထက် အဆမတန်နိမ့်သော အလွန်သန့်ရှင်းသော လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်ကဲ့သို့သော ပရော်ဖက်ရှင်နယ်စမ်းသပ်မှုတစ်ခုတွင်၊ သတ္တုကဲ့သို့သော အခြားပစ္စည်းများ။ ၎င်းသည် photolithography စက်၏အတွင်းပိုင်းအား မြင့်မားသောလေဟာနယ်ဒီဂရီနှင့် သန့်ရှင်းမှုကို အချိန်ကြာမြင့်စွာ ထိန်းသိမ်းနိုင်စေပြီး၊ ထုတ်လွှင့်နေစဉ်အတွင်း EUV အလင်းရောင် မြင့်မားစွာထုတ်လွှင့်မှုနှင့် အလင်းမှန်များအတွက် အလွန်သန့်ရှင်းသောအသုံးပြုမှုပတ်ဝန်းကျင်ကို အာမခံနိုင်စေကာ၊ optical စနစ်၏ ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို တိုးမြှင့်ပေးပြီး photolithography စက်၏ အလုံးစုံစွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ့
ပြင်းထန်သောတုန်ခါမှုကိုခံနိုင်ရည်ရှိပြီးအပူတည်ငြိမ်မှု
photolithography လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ နာနိုမီတာအဆင့်ရှိ တိကျမှုသည် photolithography စက်တွင် အနည်းငယ်တုန်ခါမှု သို့မဟုတ် အပူပုံပျက်ခြင်း မရှိစေရပါ။ အလုပ်ရုံရှိ အခြားစက်ကိရိယာများနှင့် ဝန်ထမ်းများ လှုပ်ရှားမှုကြောင့် ထုတ်ပေးသော ပတ်ဝန်းကျင်တုန်ခါမှုများအပြင် လည်ပတ်နေစဉ်အတွင်း ဓာတ်ပုံလီသရိုက်ဂရပ်ဖစ်စက်မှ ထုတ်လုပ်သော အပူသည် ဓါတ်ပုံရိုက်ပုံ တိကျမှုကို အနှောင့်အယှက်ဖြစ်စေနိုင်သည်။ Granite သည် မြင့်မားသော သိပ်သည်းဆနှင့် မာကျောသော texture ရှိပြီး တုန်ခါမှုကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ၎င်း၏အတွင်းပိုင်းသတ္တုပုံဆောင်ခဲဖွဲ့စည်းပုံသည် ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသဖြင့် တုန်ခါမှုစွမ်းအင်ကို ထိထိရောက်ရောက် လျော့ပါးစေပြီး တုန်ခါမှုပြန့်ပွားမှုကို လျင်မြန်စွာ တားဆီးနိုင်သည်။ တူညီသောတုန်ခါမှုရင်းမြစ်အောက်တွင် ကျောက်တုံးအခြေခံသည် တုန်ခါမှုပမာဏကို 90% ထက် 0.5 စက္ကန့်အတွင်း လျှော့ချနိုင်သည်ဟု စမ်းသပ်ဒေတာပြသထားသည်။ သတ္တုအခြေခံနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက၊ ၎င်းသည် စက်ပစ္စည်းများကို ပိုမိုတည်ငြိမ်စေရန် လျင်မြန်စွာ ပြန်လည်လုပ်ဆောင်နိုင်ပြီး photolithography မှန်ဘီလူးနှင့် wafer အကြား တိကျသော ဆွေမျိုးအနေအထားကို သေချာစေကာ တုန်ခါမှုကြောင့်ဖြစ်ရသည့် ပုံစံမှုန်ဝါးခြင်း သို့မဟုတ် မှားယွင်းသော ချိန်ညှိမှုကို ရှောင်ရှားနိုင်သည်။ ့
ဤအတောအတွင်း၊ သတ္တုပစ္စည်းများထက် များစွာနိမ့်ကျသော (4-8) × 10⁻⁶/℃ ခန့်မှန်းခြေအားဖြင့် ကျောက်တုံးကျောက်တုံးများ၏ အပူချဲ့ခြင်း၏ကိန်းဂဏန်းသည် အလွန်နိမ့်ပါသည်။ photolithography စက်၏လည်ပတ်မှုအတွင်း၊ အလင်းရင်းမြစ်မှအပူထုတ်ပေးခြင်းနှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာအစိတ်အပိုင်းများမှပွတ်တိုက်မှုစသည့်အချက်များကြောင့်အတွင်းပိုင်းအပူချိန်အတက်အကျရှိပါက granite base သည်အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှုကိုထိန်းသိမ်းနိုင်ပြီးအပူချဲ့ခြင်းနှင့်ကျုံ့ခြင်းကြောင့်သိသိသာသာပုံပျက်ခြင်းမဖြစ်ပါ။ ၎င်းသည် အလင်းပြန်စနစ်နှင့် တိကျသောရွေ့လျားမှုပလပ်ဖောင်းအတွက် တည်ငြိမ်ပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရသော အထောက်အပံ့ကို ပံ့ပိုးပေးကာ photolithography တိကျမှု၏ ညီညွတ်မှုကို ထိန်းသိမ်းထားသည်။
စာတိုက်အချိန်- မေ ၂၀-၂၀၂၅